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       X熒光光譜儀，是一款可對多種樣品進(jìn)行元素分析的高效儀器，為你介紹一下關(guān)于X熒光光譜儀的相關(guān)資訊。

       試樣制備

       對于不同的材料、不同的物質(zhì)濃度、不同的分析方法、不同的分析質(zhì)量要求，應(yīng)有與之相應(yīng)的試祥制備方法。

       標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)

       XRF的分析結(jié)果是通過校準(zhǔn)工作曲線獲得，而標(biāo)準(zhǔn)工作曲線由標(biāo)準(zhǔn)試樣經(jīng)測量、校正，回歸而得，所以制備標(biāo)準(zhǔn)試樣的標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)對于X熒光光譜儀的分析是必須的，它的質(zhì)量直接影響分析結(jié)果的質(zhì)量。此外，用標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)也可以檢驗(yàn)分析的準(zhǔn)確性和分析方法的可靠性。

X熒光光譜儀的文物檢測

       檢出限

       波長色散X射線熒光光譜WDXRF分析的檢出限對于原子序數(shù)中等以上的元素可達(dá)6-10μg/g。能量色散X射線熒光光譜（EDXRF）分析，通常較WDXRF低1-2數(shù)量級。

       定量分析

       涉及各種的數(shù)學(xué)模式的推導(dǎo)，以及如何選擇數(shù)學(xué)模式作定量分析，包括基本參數(shù)法，理論a系數(shù)法和經(jīng)驗(yàn)系數(shù)法。XRF分析中的基體校正可用電子空白表格程序自動(dòng)進(jìn)行Lan. chance模式基體校正，這是一種簡單、適用，有效的軟件。

       應(yīng)用領(lǐng)域

       主要集中在痕量分析和微分析方面，適用于環(huán)境控制、質(zhì)量管理、半導(dǎo)體和工程材料制造，如飲用水、廢水、工業(yè)污水的痕量元素分析?？諝?、汽車尾氣的分析，利用X射線控制集成電路生產(chǎn)，半導(dǎo)體表面雜質(zhì)分析，基底的薄膜分析，表面下的深度分析，潔凈鋼雜質(zhì)分析，硅酸鹽和巖石的分析。