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1、可測定包括痕量碳（C），磷（P）,硫（S）元素,適用于多種金屬基體，如：鐵基，鋁基，銅基，鎳基，鉻基，鈦基，鎂基，鋅基，錫基和鉛基。全譜技術(shù)覆蓋了全元素分析范圍，可根據(jù)客戶需要選擇通道元素。 2、分析速度快捷，20秒內(nèi)測完所有通道的元素成分。針對不同的分析材料，通過設(shè)置預(yù)燃時(shí)間及標(biāo)線，用短時(shí)間達(dá)到優(yōu)分析效果。

3、光學(xué)系統(tǒng)采用真空恒溫光室， 激發(fā)時(shí)產(chǎn)生的弧焰由透鏡直接導(dǎo)入真空光室，實(shí)現(xiàn)光路直通,消除了光路損耗，提高檢出限，測定結(jié)果準(zhǔn)確，優(yōu)秀重現(xiàn)性及長期穩(wěn)定性。

4、特殊的光室結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，使真空室容積更??；自動光路校準(zhǔn)，光學(xué)系統(tǒng)自動進(jìn)行譜線掃描，確保接收的正確性，免除繁瑣的波峰掃描工作。儀器自動識別特定譜線，與原存儲線進(jìn)行對比，確定漂移位置，找出分析線當(dāng)前的像素位置進(jìn)行測定；

6、開放式的電極架設(shè)計(jì)，可以調(diào)整的樣品夾，便于各種形狀和尺寸的樣品分析。

7、工作曲線采用國際標(biāo)樣，預(yù)做工作曲線，可根據(jù)需要延伸及擴(kuò)展范圍，每條曲線由多達(dá)幾十塊標(biāo)樣激發(fā)生成，自動扣除干擾；HEPS數(shù)字化固態(tài)光源，適應(yīng)各種不同材料

9、固態(tài)吸附阱，防止油氣對光室的污染，提高長期運(yùn)行穩(wěn)定性；銅火花臺底座，提高散熱性及堅(jiān)固性能。 10、合理的氬氣氣路設(shè)計(jì)，使樣品激發(fā)時(shí)氬氣沖洗時(shí)間縮短，為用戶節(jié)省氬氣。

11、采用鎢材料電極，電極使用壽命更長，并設(shè)計(jì)了電極自吹掃功能，清潔電極更加容易。

12、高性能DSP及ARM處理器，具有高速數(shù)據(jù)采集及控制功能并自動實(shí)時(shí)監(jiān)測光室溫度、真空度、氬氣壓力、光源、激發(fā)室等模塊的運(yùn)行狀況。

13、儀器與計(jì)算機(jī)之間采用以太網(wǎng)連接，抗干擾性能好，外部計(jì)算機(jī)升級與儀器配置無關(guān)，使儀器具有更好的適用性。

14、核心器件全部原裝進(jìn)口，保證了儀器品質(zhì)。全譜光譜儀制造技術(shù)（數(shù)字化技術(shù)替代老式體積龐大笨重的光電倍增電子管模擬技術(shù)）、通道不受限制 ；無須變動增加硬件，基體范圍內(nèi)通道改變增加不需費(fèi)用，同一樣品不同的時(shí)間段分析，可獲得良好的數(shù)據(jù)一致性；體積小、重量輕， 移動安裝方便 ；高集成度、高可靠性、高穩(wěn)定性 。