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痕量檢測(cè)我們可以用哪種分析儀器

發(fā)布時(shí)間:2022-09-02 09:13:04         點(diǎn)擊:2449

       對(duì)于痕量檢測(cè),你了解多少?痕量檢測(cè)(trace analysis),是一種對(duì)樣品中待測(cè)組分含量低于百萬分之一的分析方法。適合進(jìn)行痕量檢測(cè)的儀器都有哪些?

       目前,用于痕量物質(zhì)檢測(cè)的儀器主要有原子吸收分析儀(AAS)、石墨爐原子吸收分析儀(GF-AAS)、電感耦合高頻等離子體發(fā)射光譜儀(ICP-AES)、電感耦合高頻等離子質(zhì)譜儀( ICP-MS)、波長(zhǎng)色散(WDXRF)和能量色散(EDXRF)X射線熒光光譜分析儀??勺龊哿繖z測(cè)的以上幾種儀器,在分析痕量物質(zhì)時(shí)也有各自的優(yōu)勢(shì),一般單位會(huì)根據(jù)自己需求進(jìn)行選擇。

       AAS分析儀使用成本低,對(duì)專業(yè)技術(shù)要求低,光譜干擾少。但人工調(diào)試項(xiàng)目多,當(dāng)基體成分復(fù)雜時(shí),測(cè)試精度低。GF-AAS分析儀常規(guī)工作可無人自動(dòng)操作,光譜干擾少,基體干擾多,樣品需能完全氣化。ICP-AES分析能力強(qiáng),溶液分析精度高,基體干擾少,可測(cè)元素多,但該儀器只能檢測(cè)溶液。ICP-MS儀測(cè)試精度高,分析能力較前者更強(qiáng),能進(jìn)行同位素分析,樣品也需制成溶液。ICP儀都能進(jìn)行半定量分析,但當(dāng)測(cè)試高濃度物質(zhì)時(shí)需稀釋溶液,再折算到原樣品濃度的含量,ICP的測(cè)試誤差被同時(shí)放大,這大大降低了測(cè)試精度。但對(duì)于工廠的大規(guī)模生產(chǎn)而言,以上這些儀器因?yàn)橹茦又芷陂L(zhǎng),并不適合。

X熒光光譜儀與ICP光譜儀

X熒光光譜儀與ICP光譜儀

       WDXRF 和EDXRF儀測(cè)試精度較ICP低一些,分析能力較ICP強(qiáng)一些,但它可直接對(duì)塊狀、液體、粉末樣品進(jìn)行測(cè)試,亦可對(duì)小區(qū)域進(jìn)行分析,還可分析鍍層和薄膜,樣品制備簡(jiǎn)單,分析時(shí)間短,分析精度能滿足工廠生產(chǎn)的需要,很合適工廠大規(guī)模生產(chǎn)。它的弱點(diǎn)是存在光譜干擾,特別是樣品中同時(shí)存在光譜干擾的幾個(gè)元素時(shí),XRF就很難辯別這幾個(gè)元素。

       痕量檢測(cè)作為地球化學(xué)、材料科學(xué)、生物醫(yī)學(xué)、環(huán)境科學(xué)、表面科學(xué)以及罪證分析等領(lǐng)域重要的檢測(cè)方法,根據(jù)自身實(shí)際需求,選擇合適的檢測(cè)儀器。
 

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